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蘇打掩膜版
蘇打玻璃常用在STN-LCD、TN-LCD、FED、EL行業(yè)專(zhuān)用光學(xué)掩模版基材
類(lèi)別 蘇打掩膜版
常規尺寸(mm) 3"X3", 4"X4", 5"X5", 6"X6", 7"X7", 9"X9", 12"X12", 14"X17", 16"X18",20”x24”
450mm×550mm,400mm×400mm, 700mmX800mm
最大尺寸(mm) 850*1200
特殊尺寸(mm) 按客戶(hù)要求定做(XY=20~609mm)
基材厚度(mm) 1.6  2.3 3.0  4.8   7.8   8.0
鉻膜類(lèi)型    ARC Anti-Reflective Chrome
熱性能(℃) 710℃
溫度收縮系數 8.1*10ˉ6(20~200 ℃)
透過(guò)率 >90%(T=2.3mm;l=400nm)
折射率 1.52
垂直入射反射率 約8%(片面反射約4%)
耐酸性能 H2SO4(80℃,99%) 0.1?/min
耐堿性能 NaOH(Wt2%)0.8?/min
表面平整度 <20um(400*400*3.0mm)

小尺寸鉻版(≤9英寸)
類(lèi)別 超高精度/高精度(228.6mm*228.6mm) 中精度/低精度(228.6mm*228.6mm)
線(xiàn)縫尺寸
(μm)
線(xiàn)縫精度
(μm)
垂直度
(urad)
總長(cháng)精度
(μm)
位置精度
(μm)
線(xiàn)縫尺寸
(μm)
線(xiàn)縫精度
(μm)
垂直度
(urad)
總長(cháng)精度
(μm)
位置精度
(μm)
蘇打 ≥1.5 ≤0.2 ≤0.5 <0.5 ≤0.2 ≥5 ≤0.5 ≤1 ≤1 ≤0.5

大尺寸鉻版(>9英寸)
類(lèi)別 超高精度/高精度(400mm*450mm) 中精度/低精度(400mm*450mm)
線(xiàn)縫尺寸
(μm)
線(xiàn)縫精度
(μm)
垂直度
(urad)
總長(cháng)精度
(μm)
位置精度
(μm)
線(xiàn)縫尺寸
(μm)
線(xiàn)縫精度
(μm)
垂直度
(urad)
總長(cháng)精度
(μm)
位置精度
(μm)
蘇打 ≥3 ≤0.75 ≤0.5 ≤1 ≤0.75 >6 ≤1 ≤1.5 ≤2 ≤1
快速退火工藝(一)
快速退火工藝(一)

2023-11-17

快速熱退火是用各種熱輻照源,直接照射在樣品表面上,迅速將樣品加熱至700~1200℃左右在幾秒~幾十秒的時(shí)間內完成退火。它與常規熱退火相比,有下列優(yōu)點(diǎn)...

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離子鍍膜
離子鍍膜

2023-10-16

離子鍍是一種在真空環(huán)境中,利用高壓氣體放電將鍍料蒸發(fā)后離子化,沉積在產(chǎn)品表面形成一層鍍膜的工藝。  離子鍍工藝出現于上世紀70年代,是一種...

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常規ICP刻蝕的操作流程
常規ICP刻蝕的操作流程

2023-10-13

(一)裝片:1,在Pump 界面點(diǎn)擊左邊Pump 圖標下Stop,切換至Vent ,120s 后打開(kāi) Loadlock;2,涂抹真空油脂:根據片子尺寸大小,在托盤(pán)上涂抹...

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分子束外延的技術(shù)難點(diǎn)
分子束外延的技術(shù)難點(diǎn)

2023-10-09

分子束外延是50年代用真空蒸發(fā)技術(shù)制備半導體薄膜材料發(fā)展而來(lái)的。隨著(zhù)超高真空技術(shù)的發(fā)展而日趨完善,由于分子束外延技術(shù)的發(fā)展開(kāi)拓了一系列嶄新的超...

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