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MEMS加工

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激光制版
  • 掩膜版設計仿真
    各種尺寸定制掩膜版設計。
  • 器件級仿真
    可進(jìn)行靜態(tài)、動(dòng)態(tài)、瞬態(tài)和頻域等不同類(lèi)型下熱、靜電、機械、熱-機-電耦合、流-固耦合分析。
  • 工藝級仿真
    結合材料、版圖和工藝流程,創(chuàng )建器件的三維虛擬模型,輸出到TEM模塊進(jìn)行分析。
  • 系統級仿真
    可有效進(jìn)行的CMOS-MEMS的器件、電路綜合設計的優(yōu)良工具,可以實(shí)現MEMS-IC整體設計。
  • 建模工具
    設計工具有:高級版圖編輯模塊、設計規則檢查工具、三維建模模塊和網(wǎng)格劃分工具。
  • 掩膜版制作
    各種尺寸( 2”,3”、4”、5”、6”、7” )鉻版制作。








案例展示


                          

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快速退火工藝(一)
快速退火工藝(一)

2023-11-17

快速熱退火是用各種熱輻照源,直接照射在樣品表面上,迅速將樣品加熱至700~1200℃左右在幾秒~幾十秒的時(shí)間內完成退火。它與常規熱退火相比,有下列優(yōu)點(diǎn)...

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離子鍍膜
離子鍍膜

2023-10-16

離子鍍是一種在真空環(huán)境中,利用高壓氣體放電將鍍料蒸發(fā)后離子化,沉積在產(chǎn)品表面形成一層鍍膜的工藝。  離子鍍工藝出現于上世紀70年代,是一種...

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常規ICP刻蝕的操作流程
常規ICP刻蝕的操作流程

2023-10-13

(一)裝片:1,在Pump 界面點(diǎn)擊左邊Pump 圖標下Stop,切換至Vent ,120s 后打開(kāi) Loadlock;2,涂抹真空油脂:根據片子尺寸大小,在托盤(pán)上涂抹...

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分子束外延的技術(shù)難點(diǎn)
分子束外延的技術(shù)難點(diǎn)

2023-10-09

分子束外延是50年代用真空蒸發(fā)技術(shù)制備半導體薄膜材料發(fā)展而來(lái)的。隨著(zhù)超高真空技術(shù)的發(fā)展而日趨完善,由于分子束外延技術(shù)的發(fā)展開(kāi)拓了一系列嶄新的超...

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