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離子鍍膜

點(diǎn)擊量:788 日期:2023-10-16 編輯:硅時(shí)代

離子鍍是一種在真空環(huán)境中,利用高壓氣體放電將鍍料蒸發(fā)后離子化,沉積在產(chǎn)品表面形成一層鍍膜的工藝。 

離子鍍工藝出現于上世紀70年代,是一種新型的真空鍍膜工藝,離子鍍目的也是為了在產(chǎn)品表面鍍上一層防腐蝕層,以防止產(chǎn)品生銹。

離子鍍技術(shù)雖然出現的時(shí)間短,但應用卻很廣泛,可以用于日常用品,工藝品,航天航空以及光學(xué)器件等工業(yè)領(lǐng)域。 

離子鍍的特點(diǎn) 

用離子鍍工藝后的產(chǎn)品鍍層質(zhì)量非常好,離子鍍的鍍層組織致密,并且不會(huì )出現針孔,氣泡等常規鍍層所出現的這些問(wèn)題,產(chǎn)品表面鍍層厚薄均勻,甚至可以在有凹槽或者菱角的不規則產(chǎn)品表面離子鍍膜。 

離子鍍工藝還可以起到對產(chǎn)品修復的作用,一些產(chǎn)品表面出現的裂紋以及麻點(diǎn)等細小缺陷,通過(guò)離子鍍后,能夠有效的改善產(chǎn)品表面質(zhì)量,并且還能提高產(chǎn)品的物理和機械性能。

離子鍍時(shí),蒸發(fā)物質(zhì)都會(huì )在真空電場(chǎng)環(huán)境中以電力線(xiàn)方向運動(dòng),所以只要有電場(chǎng)存在,產(chǎn)品的每個(gè)部位就都能獲得良好的鍍層,而這與其它鍍膜工藝只能通過(guò)直射方式才能獲得鍍層要更有優(yōu)勢。


所以,這就讓那些需要在孔內,凹槽或者是縫隙等,傳統上難鍍的部位也能夠高質(zhì)量的鍍膜,以此也能提高整個(gè)產(chǎn)品的質(zhì)量。

我們知道很多傳統鍍膜工藝,在鍍膜前都需要對產(chǎn)品進(jìn)行多次的表面清洗除油,才能獲得高質(zhì)量的鍍膜層,這些鍍前工序費時(shí)費力還不環(huán)保。 

離子鍍工藝是通過(guò)轟擊實(shí)現鍍膜的,而這種轟擊就具有清洗功能,并且這種轟擊清洗功能會(huì )持續整個(gè)鍍膜過(guò)程,所以,離子鍍不再需要前期對產(chǎn)品進(jìn)行清洗工序,還能有效提高鍍膜層的附著(zhù)力。 

在整個(gè)離子鍍過(guò)程中,需要鍍膜的產(chǎn)品并不會(huì )受到高溫的影響,這就讓離子鍍的應用范圍變得非常廣泛,很多材料都可以使用這種工藝,例如說(shuō)各種金屬,合金材料外,還可以對塑料,橡膠,陶瓷以及大理石等材料進(jìn)行離子鍍。

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